技术编号：2743806
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明关于透过液体^J4反曝光的。 背景技术半导体元件或液晶显示元件，是通过将形成于掩膜版上的图案转印于感光 性基板上、即所谓的光刻方法来制造。此光刻步骤所使用的曝光装置，具有支 撑掩膜版的掩膜版载台与支撑基板的基板载台，使掩膜版载台与基板载台 一边 逐次移动一边透过投影光学系统将掩膜版的图案转印于基板。近年来，为对应 元件图案的更高集成化，而期待投影光学系统具有更高分辨率。投影光学系统 的分辨率，是所使用的曝光波长越短、或投影光学系统的数值孔径越大则会越...
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