技术编号：27438120
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。.本实用新型涉及真空镀膜技术领域，尤其是涉及靶材供料设备与真空镀膜设备。背景技术.靶材是镀膜工艺中不可或缺的的溅射源，在进行真空镀膜的过程中需要持续的添加靶材，相关技术中的供料设备难以在保证密封的条件下实现持续供料，影响生产的连续性。实用新型内容.本实用新型旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本实用新型提出一种靶材供料设备，能够实现持续供料，保证工艺的持续进行。.本实用新型还公开了应用上述靶材供料设备的真空镀膜设备。.根据本实用新型第一实施例的靶材供料设备，包括：.第一存...
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