技术编号：2744059
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本文描述的本发明涉及一种用于供给化学液体的单元以及使用该单元处理衬底 的装置和方法，尤其是涉及一种用于供给光致抗蚀剂涂覆工艺中使用的化学液体的单元， 以及使用该单元处理衬底的装置和方法。背景技术通常，半导体衬底是通过将形成预定电路图案的薄膜层叠在硅片上来制成的。为 了形成和层叠薄膜，需重复执行诸如沉积工艺、光刻工艺、蚀刻工艺等多个单元工艺。 所述单元工艺中的光刻工艺用于在晶片上形成图案。光刻工艺包括光致抗蚀剂涂 覆工艺，曝光工艺，显影工艺等。 光致抗蚀剂...
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