技术编号：2744779
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及半导体制造领域，特别是涉及一种应用于光刻设备的基于多个 不同波长的对准方法。背景技术光刻装置是制造集成电路的主要设备，其作用是使不同的掩膜图案依次成像到基底(半导体硅片或LCD板)上的精确对准的位置。然而这个对准位置却 因为连续图形所经历的物理和化学变化而改变，因此需要一个对准系统，以保 证硅片对应掩膜的对准位置每次都能够被精确的对准。随着基底每单位表面积 上的电子元件数量的增长以及电子元件的尺寸合成越来越小，对集成电路的精 度要求日益提高，因此...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。