技术编号：2745280
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种校准光刻系统的方法、一种承载用于校准光刻系统的计算机程序的计算机可读介质和一种校准方法。 背景技术例如，可以将光刻设备用在集成电路(IC)的制造中。在这种情况下，掩模可以包 含对应于所述IC的单层的电路图案，并且可以将该图案成像到已经涂覆了一层辐射敏感 材料(抗蚀剂)的衬底(例如，硅晶片)上的目标部分(例如，包括一个或多个管芯)上。 通常，单个晶片将包含相邻目标部分的整个网络，所述相邻目标部分通过投影系统被一次 一个地连续辐射。在一种类型的光...
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