技术编号：2745286
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明是涉及检测形成于光罩的光罩对准标记(光罩标记)，及形成于基板(工件)的工件对准标记(工件标记)，进行对位(对准)使得两者成为事先所设定的位置关系， 并经由光罩进行曝光工件的曝光装置，尤其涉及可縮短对位与对准曝光的曝光处理整体的 时间的曝光装置。背景技术在通过照相平版印刷影印法来制造半导体元件、印刷基板、液晶基板等的图案的 工序中，使用曝光装置。曝光装置是将形成光罩图案的光罩、及其图案所转印的基板(以下 也称为工件)对位于预定的位置关系，然后，隔着光罩...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。