技术编号：2745287
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明是有关检测形成在掩模上的掩模*对准标记(掩模标记)和形成在工件上的工件 对准标记(工件标记)，将两者进行对位使其形成事先设定的位置关系(对准)， 并经由掩模将光照射在工件上的曝光装置中，进行工件 对准标记检测用的检测方法及检 测装置。背景技术通过光蚀刻制造半导体元件、印刷基板、液晶基板等图形的步骤中，使用曝光装 置。曝光装置是将形成掩模图形的掩模，及转印其图形的工件对位在预定的位置关系，之后 经掩模照射含曝光光的光。由此，将掩模图形转印(曝光)到工件...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。