技术编号：2745463
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种通过在光致抗蚀剂涂布工艺和曝光工艺之后在基材表面上供给显影液以进行显影工艺的喷嘴，以及使用所述喷嘴处理基材的设备和方法。背景技术通常，在制作半导体器件时，通过以下步骤形成电路图案在作为目标基材的半导体晶片上涂布光致抗蚀剂，进行曝光工艺将掩模图案转移到光致抗蚀剂，以及使光致抗蚀剂显影。 当使光致抗蚀剂显影时，通常使用所谓的坑洼(puddle)法，其中从喷嘴将显影液连续供应到基材，并且显影液仅在形成图案的表面上聚集预定时间，从而使光致抗蚀剂层的图...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。