技术编号：2745661
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及微纳加工中的曝光工艺，特别是涉及掩模为薄膜的x射线曝光工艺中的间隙控制方法。 背景技术曝光工艺是微纳加工中的关键工艺，微纳加工的精度取决于曝光工艺。曝光工艺 中大多采用接近式曝光，即曝光过程中掩模和光刻胶表面保持一定的间隙。由于光的衍射， 这个间隙会影响光学成像的质量。对于同样的掩模，不同的间隙会得到不同的图形转移精 度，所以间隙控制技术是曝光工艺中至关重要的工艺环节。 X射线曝光工艺采用X射线作为光源，由于X射线具有波长短、穿透深度大的特点， ...
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