技术编号：2748808
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及一种微光学元件的制作装置，尤其涉及一种二元光学组件 横向制作装置。背景技术二元光学元件的制作方法源自于超大规模集成电路中的微电子加工技术。 但相对于微电子加工技术，二元光学元件有着三维浮雕结构，加工时，既需要 控制平面图案的横向加工精度也需要控制其纵向深度的加工精度。二元光学元 件的制作工艺按浮雕的形状可以分为多台阶加工工艺和连续相位加工工艺。前 者主要包括掩模套刻法、多次薄膜沉积法、数字灰度掩模法。后者则为直写工 艺，主要包括激光束、电子束...
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