技术编号：2748975
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种光致抗蚀剂即碱水显影型光抗蚀剂，尤其涉及一种可光固化、可光成像、用碱水显影、耐酸腐蚀、耐各种酸性电镀液的光致抗蚀剂。应用于高精密度的印刷电路、双面电路板、多层电路板的制作工艺中，需要液体光致抗蚀剂(并且是碱水显影型)进行制版和刻蚀，而且要其高分辨率，用于制作精细线宽的复杂电路板；应用在高精密度的金属图象制作以及蚀刻浮雕图象也需要此产品。目前此类产品在国内研究者众，但还未见商业上的应用，目前所提供的试制品和国外公开的参考配方一样，事实上是不可行...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。