技术编号：2751432
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。在产生聚焦斑点的可控图案的系统中，例如用于无掩模光刻的投影系统中，本发 明涉及聚焦斑点的优化。背景技术空间光调制器连同所谓的“无掩模”光刻(maskless lithographic)系统的适应 投影系统取代传统光刻系统的刻线，以用来在光敏基板上成像图案，该图案不受刻线的物 理边界或具体图案的限制。与在刻线内成像静态图案不同，无掩模光刻系统成像聚焦斑点 的动态图案，动态图案可在平移跨过光敏基板的同时独立地在开、关状态之间切换。空间光调制器包括元件阵列，这些...
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