技术编号：2751514
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种用于微光刻的投射设备。此外，本发明涉及一种用于微光刻的投射曝光设备。此外，本发明涉及一种用操作用于微光刻的投射曝光设备的方法。背景技术用于微光刻的投射曝光设备一般包括光源、处理由光源发射的光束的照明系统、 要被投射的物(一般称为掩模母版或掩模)、将物场成像到像场上的投射物镜(下文简称为物镜)、以及在其上实现投射的另一物(一般称为晶片)。掩模母版或掩模母版的至少一部分位于物场中，并且晶片或者晶片的至少一部分位于像场中。物镜可以定义光轴，相对于该...
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