技术编号：2751699
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明大体涉及设计用于与光刻工艺相关的校准的测规图案，更具体地，涉及用于设计校准图案组的计算有效的方法，其中单个图案对不同参数变化具有显著不同的响应并且也对参数变化非常敏感，因而具有对抵抗校准中的随机测量误差的鲁棒性。背景技术例如，可以将光刻设备用在集成电路(IC)的制造中。在这种情况下，掩模包含对应IC的单层的电路图案，并且该图案被成像到已经涂覆有辐射敏感材料(抗蚀剂)的衬底 (例如，硅晶片)上的目标部分(例如，包括一部分管芯、一个或多个管芯)上。通常，...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。