技术编号：2751736
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及具有按照权利要求1的前序部分的特征的对辐射敏感的基片成像用的方法和具有按照权利要求11的前序部分的特征的对辐射敏感的基片成像用的装置。背景技术在对辐射敏感的基片(Substrat)成像用的已知方法中，用相干辐射照射可编程模板(Vorlage)，并借助于光学系统投影在对所使用的辐射敏感的基片上。该可编程模板例如可以是可控制的微反射镜阵列，其单个元件在空间上分开地被映射。该光学系统，由至少两个独立的透镜组建立，通过每个单个元件的单个图像叠加而在该基片...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。