技术编号：2752134
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及利用与被曝光体接近、相对地具备的光掩模以规定图案进行曝光的曝光装置，详细地说，涉及能提高曝光图案的分辨率并进行微细图案的曝光的曝光装置和光掩模。背景技术以往的曝光装置，特别是接近式曝光装置是使光掩模与被曝光体接近，将形成在光掩模中的图案曝光到被曝光体，具有透明玻璃板，其在下面具备能贴紧光掩模的贴紧平面；掩模吸附保持装置，其用于将光掩模吸附保持到贴紧平面；以及玻璃板保持装置，其以在光掩模和被曝光体之间形成微小间隙的方式保持透明玻璃板(例如，参照专利...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。