技术编号：2752167
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种光致抗蚀剂剥离剂组合物，和一种使用所述光致抗蚀剂剥离剂组合物剥离光致抗蚀剂的方法。 背景技术半导体集成电路或液晶显示器件的微电路制造方法通过以下步骤进行将一种 光致抗蚀剂均匀地涂布在一个形成于基底上的绝缘膜上，所述绝缘膜例如导电金属膜(如 铝、铝合金、铜、铜合金、钼、钼合金等)、氧化硅膜、氮化硅膜等；将所述光致抗蚀剂选择性 地曝光并显影，以形成光致抗蚀剂图案；使用形成图案的光致抗蚀剂膜作为掩模来湿蚀刻 或干蚀刻所述导电金属膜或绝缘膜，以将所述...
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