技术编号：2752406
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及形成防反射膜用的组合物，详细地说，涉及在制造半导体器件的光刻工艺中，能够使向涂布在基板上的光致抗蚀剂层的曝光照射光从基板的反射减轻的防反射膜材料用组合物。更详细地说，涉及在用波长157nm的曝光照射光进行的半导体器件制造的光刻工艺中，含有有效地吸收来自基板的反射光的高分子化合物组合物的形成防反射膜的组合物。背景技术 以往，在半导体器件的制造中，利用采用光致抗蚀剂组合物的光刻工艺进行细微加工。所述细微加工，是在硅晶片上形成光致抗蚀组合物的薄膜，然后...
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