技术编号：2752644
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及重力补偿装置，尤其涉及应用于光刻设备的重力补偿装置。 背景技术光刻是指将一系列掩膜版上的图形通过曝光系统依次转印至硅片相应层上的复 杂工艺过程。在光刻设备中，工件台负责硅片的精密运动，一般采用粗微定位方式，即大行 程的粗动台实现长距粗定位，而微动台则实现纳米级的精确定位。微动台的作用是承载硅 片，通过水平向和垂向的六自由度精确调整和定位使硅片完成对准和调平调焦作业任务。在微动台之类的精密运动装备中，物体重力对运动的影响较大，需要采取措施进 行补偿...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。