技术编号：2752713
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及在光刻工艺(photolithography process)中使用的光掩模的修正方 法。背景技术光掩模用于液晶显示装置等的制造工艺的光刻工艺中。上述光掩模例如由透明基 板和形成于该透明基板上的遮光膜图案(掩模图案)构成。在光掩模的背面存在损伤的话， 曝光时曝光光线会在损伤部位发生漫反射，从而不能够进行预期的转印。特别是最近开始 出现的液晶面板为单边尺寸超过1000mm的矩形，而且以后会出现的第十代等液晶面板的 大小为2850mmX3050mm等...
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