技术编号：2752876
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及，尤其涉及一种利用光学原理和基准互相参考的工件台和掩模台测量光路平行的调节方法。背景技术光刻是指将一系列掩模版上的芯片图形通过曝光系统依次转印到硅片相应层上的复杂工艺过程。在光刻设备中，工件台和掩模台为实现精确定位，测量系统都采用激光干涉仪测量。在工件台和掩模台实际集成装配时，工件台的激光光路要求和掩模台激光光路平行。通常的办法是利用工件台和掩模台激光干涉仪的定位面调节，或者通过专用仪器进行调节。但由于工件台和掩模台在高度上有很大的距离，造成装配...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。