技术编号：2752878
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及扫描光刻机校准技术，尤其涉及掩模台扫描倾斜的测量方法。 背景技术扫描光刻机掩模台水平方向一般由干涉仪控制，垂向一般由执行器或干涉仪控制。由于加工精度的限制，采用执行器测量的掩模台大理石，或者采用干涉仪控制的45度镜等并非能够保持与理想面平行，甚至存在一形貌起伏。因此在扫描曝光过程中，其承载的掩模相对于投影物镜的最佳物面有一定的倾斜偏差，在扫描曝光时，掩模台的移动会造成自身垂向上的变化，因而使得掩模不能沿着最佳物面移动，这种情况称之为掩模台扫描倾斜...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。