技术编号：2753014
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种光刻机，且特别涉及一种具有光刻机中的双工件台系统。背景技术在集成电路芯片的生产过程中，芯片的设计图形在硅片表面光刻胶上的曝光转印 (光刻)是其中最重要的工序之一，该工序所用的设备为光刻机(曝光机)。光刻机的分辨 率和曝光效率，又在很大程度上决定了光刻机的分辨率和曝光效率。 步进扫描投影光刻机基本原理如图1所示。来自光源10的深紫外光透过掩膜版 20、透镜系统30将掩膜版上的一部分图形成像在硅片40的某个芯片上。掩膜版和硅片反 向按一定的速度比...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。