技术编号：2753534
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及新型的抗反射涂层组合物，及其通过在反射衬底和光刻胶涂层之间形成薄层的新型抗反射涂层组合物而用于图像处理中的用途。这样的组合物特别可用于由光刻技术制造半导体器件。背景光刻胶组合物用于制造微型化电子元件用的微光刻工艺中，如用于制造计算机芯片和集成电路。通常，在这些工艺中，首先将光刻胶组合物的薄膜涂层涂覆到衬底材料上，如用于制造集成电路的硅晶片上。然后烘焙经涂覆的衬底，以蒸发在光刻胶组合物中的任何溶剂并将涂层固定到衬底上。而后对衬底的烘焙后的涂覆表面进...
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