技术编号：2753648
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种衍射光学元件的制备方法，具体涉及在有像差大尺寸光学基底上 制备低衍射波像差的全息光栅。背景技术大尺寸一维平面衍射光栅是许多大型高科技工程项目的关键元件。为满足激光惯 性约束核聚变系统对激光能量技术指标的要求，衍射光栅必须做到大尺寸、低衍射像差。光 栅制作系统通常由全息光学系统和记录基底两部分构成，全息光学系统用于产生全息记录 干涉光场，记录基底上则涂有感光材料，通过干涉形成的干涉条纹被感光材料记录，再通过 后处理获得衍射光栅。全息技术是制造大...
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