技术编号：2753745
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及微纳米加工，尤其涉及。背景技术为充分利用廉价而且业以成熟的光学曝光手段满足微纳米加工的需要，如何提高现有光学曝光系统的实用分辨率，成为研究的热点。八十年代前期人们只局限于在曝光设备上进行开发，八十年代后期则进一步在抗蚀剂方面加紧研究(包括光致抗蚀剂曝光反差增强技术(CEL)；光致抗蚀剂化学增幅技术和多层抗蚀剂技术等)。到了九十年代，主攻方向进入以相干曝光技术为代表的“光技术革命”时代，利用控制光学曝光过程中的光位相参数，产生光的干涉效应，部分抵消...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。