技术编号：2753755
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明一般地涉及半导体制造，更具体地，涉及用于监测和控制直写系统的覆盖 的系统和方法。背景技术光刻或光学光刻一般用作微细加工中的工艺，以选择性地移除衬底上的薄膜的部 分。光刻通常使用定向光源将几何构图从光掩膜转移到形成在衬底上的光敏化学抗蚀剂材 料上，从而在抗蚀剂材料上由光辐射而形成曝光的构图。然后可以使用一系列化学处理来 刻蚀或另外将曝光的构图转移到位于抗蚀剂层之下的一个或多个薄膜层中。更多最近的用于微细加工的光刻型系统用于在抗蚀剂层中转移或产生曝光构图...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。