技术编号：2753991
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及用于光刻的投影物镜波像差的校正系统及方法。 背景技术投影物镜波像差是影响光刻机套刻精度与光刻分辨率的重要因素。随着光刻特征尺寸的不断降低，波像差对光刻成像质量的影响越来越突出。因此，光刻机投影物镜波像差的检测与校正已成为保证光刻成像质量的重要手段。投影物镜波像差校正通常采用如下方法首先利用曝光方法检测得到投影物镜波像差，之后根据测得的波像差计算投影物镜可动镜片的校正量进行校正，然后再次进行曝光验证投影物镜波像差的校正结果。该校正方法由于无法实时检...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。