技术编号：2755000
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种制作云纹光栅的方法和纳米压印设备，属于光学器件制造、光测 力学领域。背景技术转移或直接刻蚀在被测物体表面的光栅作为物体表面变形信息的载体，在光测力 学领域中是几何云纹法、云纹干涉法和电镜云纹法中进行物体表面变形测量的基本元件。机械刻划是制作光栅最传统的方法，该方法利用刻纹机在光栅材料表面刻划出一 条一条的沟槽，对刻纹机的机械精度提出了很高的要求。刻纹机设备笨重，制作光栅不仅费 时、制作成本高，而且所得到的光栅频率比较低，质量也不尽如人意。(马...
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