技术编号：2755093
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及能够保证掩模板透明基片光学特性的掩模板提供系统、掩模板提供方 法、掩模板透明基片制造方法和掩模板制造方法，以及一种掩模板，并进一步涉及能够防止 转移靶标图形缺陷的掩模制造方法。背景技术近年来，如下的微型半导体设备得到了发展，其曝光光源的波长降低从而使曝光 波长达到了 200nm或者更小。作为这种曝光光源的实例是ArF受激准分子激光器(波长 193nm)和F2受激准分子激光器(波长157nm)。用于屏蔽这些曝光波长的光和改变其相位 的屏蔽膜(光屏蔽...
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