技术编号：2755167
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及半导体，特别是涉及一种可以应用在步进曝光设备中的光刻投影物镜。背景技术光刻设备是一种将所需图案应用于工件上的装置。通常是利用辐射束将所需图案应用于工件上的目标部分上的装置。光刻装置能够被用于例如集成电路(IC)的制造。通常，光刻设备的范围包括但不限于集成电路制造光刻装置、平板显示面板光刻装置、MEMS/ MOEMS光刻装置、先进封装光刻装置、印刷电路板光刻装置、印刷电路板加工装置以及印刷电路板器件贴装装置等。目前在半导体加工领域，微米级分辨率，高...
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