技术编号：2756004
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明有关于一种自动对焦技术，特别是有关于一种将硅片调整至最佳焦平面的方法及其曝光装置。背景技术曝光装置用于在半导体制程上将掩模上的图形曝光成像到硅片上。一般而言，曝光装置包括光源、承载掩模的掩模台、具光轴的投影物镜、承载硅片的工件台以及测控系统。测控系统用来检测硅片沿投影物镜光轴的所在位置，并用检测得到的位置信息来控制工件台的驱动装置，使得工件台沿投影物镜的光轴移动到最佳焦平面的位置。目前常见的测控系统通常包括照明组件、投影组件、光线接收装置、条块阵列以...
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