技术编号：2756240
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明属于聚合物光波导材料与器件，具体涉及一种可用于制备聚合物 光波导器件的高含氟负性光刻胶组合物，其由高含氟环氧树脂、光致产酸物和有机溶剂组 成。背景技术光刻胶组合物用于微平板印刷工艺中制造微型电子元件，例如制造计算机芯片与 集成电路。一般，在这些工艺中，首先将光刻胶组合物的薄膜涂覆在衬底材料上，然后烘烤 经涂覆的衬底以蒸发在光刻胶组成物中的溶剂，再通过掩膜板使光刻胶层在活化辐射源下 曝光，活化辐射源使光刻胶层发生光致化学变化，可见光、紫外(UV)光、电...
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