技术编号：2756890
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种制作过滤膜网孔结构的方法和系统，尤其涉及一种基于激光干涉 光刻技术制作过滤膜网孔结构的方法和系统。背景技术激光干涉光刻技术利用光的干涉特性，不同的曝光方法会产生不同孔径、孔间间 距的图形。通过特定的光束组合方式，来调控干涉场内的光强度分布，用调制后重新分布的 激光能量烧蚀被加工材料表面，从而产生光刻图形。干涉光刻技术不需要掩模和昂贵的光 刻成像透镜，从而提供了得到高分辨率、无限焦深、大面积光刻的可能性。特别适合光电探 测器或场发射器电极阵列中...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。