技术编号：2757592
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及保持平板印刷投射透镜下面的浸没流体的设备和方法。 背景技术在进行半导体加工期间，通常采用平板印刷系统将光栅上的图像传送到半导体晶 片上。典型的平板印刷系统包括光学组件；固定光栅的光栅台，该光栅确定图案；定位半 导体晶片的晶片台组件；测量系统，该系统准确检测光栅和晶片的位置。在操作期间，由光 栅上的图像由光学组件投射到晶片上。投射的图像其大小通常是晶片上的一个器件小区域 或多个小区域的大小。在曝光后，晶片台组件移动晶片，然后进行另一次曝光，重复这一...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。