技术编号：2757611
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。激光干涉纳米光刻可广泛应用于信息存储、先进制造、新能源和新材料等前沿领 域，本发明是在激光干涉纳米光刻中对光束入射姿态进行检测与校准，属于对激光干涉纳 米光刻技术的改进。背景技术激光干涉纳米光刻主要是用激光器发出的两束或多束相干光在样品表面干涉来 产生纳米结构图案。一个激光干涉纳米光刻系统包括激光发射、光束整形、分束、相位控 制、干涉控制、偏振控制、光束检测、样品定位和系统控制。在激光干涉纳米光刻中，入射光 相对于样品表面的入射位置、入射角以及空间角直接决...
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