技术编号：2757782
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及使掩模的掩模图案在基板表面上曝光的。特别是 涉及能够矫正掩模的弯曲并在基板上正确曝光掩模图案的。背景技术半导体元件、液晶画面或在一片基板上搭载了各种电子元件而做成一个电子元件 模块的多芯片模块等需要微米尺寸加工的各种电子元件的制造中，存在使布线图曝光在基 板表面上的曝光工序。在曝光工序中，经常使用在掩模和基板之间设置间隙的状态下照射 平行光的方法。由于掩模与基板为非接触状态，因此具有掩模不易污染，寿命长的优点。但是，由于掩模与基板之间设置了间隙，...
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