技术编号：2759622
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及集成电路装备制造领域，尤其涉及一种光刻设备以及测量多光斑零位偏差的方法。背景技术光刻机是一种应用于集成电路制造的装备，利用该装备包括但不限于集成电路制造光刻装置、液晶面板光刻装置、光掩模刻印装置、MEMS (微电子机械系统)/MOMS (微光机系统)光刻装置、先进封装光刻装置、印刷电路板光刻装置及印刷电路板加工装置等。在光刻设备中，为了使投影物镜能将掩模图案清晰地投影到硅片上，需要测量硅片的曝光面是否与投影物镜焦面重合，因而需要使用调焦调平传感器...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。