技术编号：2760902
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及使用光刻掩模来制造诸如集成电路的物体的小尺寸图形。具体上，本发明涉及用于集成电路和类似的物体的复杂布局的相移掩模。背景技术 相移掩模(phase shift masking)已经被应用来建立在集成电路中的小尺寸图形(features)。典型地，所述图形已经局限于具有小的临界尺寸的设计的所选择器件。例如，参见美国专利第5,766,806号。虽然在集成电路中的小尺寸图形的制造已经带来了改进的速度和性能，但是期望在这样的器件的制造中更为广泛地使用相移掩...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。