技术编号：2762466
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及防反射膜材料用组合物，更详细地说，涉及能够使向涂布在基板上的光致抗蚀剂层的曝光照射光从基板的反射减轻的组合物，进一步详细地说，涉及含有有效地吸收在248nm，193nm或157nm波长的曝光照射光的树脂组合物的形成防反射膜的组合物。背景技术 在现有的半导体器件的制造过程中，进行采用光致抗蚀剂组合物的光刻的微加工。上述微加工是一种这样的加工方法在硅晶片上形成光致抗蚀剂组合物薄膜，通过在其上描绘了半导体器件图案的掩模图案对该薄膜进行紫外线等的活性光线...
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