技术编号：2763106
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及一种半导体光刻标记，具体涉及一种能够放大空间偏移的OVL标记。背景技术现有的OVUoverlay套准)，其设计偏移和实际偏移都是1 1的比例，对于设计 偏移很小的0VL，无法采用目测方式进行测量。实用新型内容本实用新型所要解决的技术问题是提供一种能够放大空间偏移的OVL标记，它可 以将偏移放大，以便进行目测或其他量测方式。为解决上述技术问题，本实用新型能够放大空间偏移的OVL标记的技术解决方案 为包括几何图形状标记，几何图形设有角θ，tag...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。