技术编号：2763740
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明是一种焦线长度连续可调的均匀线聚焦光学系统。主要用于高功率激光打靶实验或需要高功率光束线聚焦工作中。在X光激光研究中，通常需要将入射的高功率激光束汇聚成一条焦线辐照X光激光靶，以获得X光激光输出。在实验研究中，该焦线应该满足1)高纵横比，长度为cm量级，宽度尽可能小，一般为几十至百微米量级，以获得高的辐照功率密度;2)沿焦线长度方向光强分布应尽可能均匀，以便对靶面进行均匀照明;3)激光焦线长度方向与被汇聚的入射激光束应尽可能地垂直，以提高X光激光靶对...
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