技术编号：2763805
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及光学，具体涉及微光刻中的光学。背景技术 光刻术(也称之为微光刻术)是半导体制作技术。光刻术利用紫外(UV)或可见光以产生半导体器件设计中的精细图案。利用光刻技术可以制作许多类型的半导体器件，例如，二极管，晶体管，和集成电路。在半导体制作中，曝光系统或工具用于实施光刻技术，例如，蚀刻。曝光系统可以包括光源，标线片，光学缩制系统，和晶片对准平台。半导体图案的图像印制或制作在标线片(也称之为掩模)上。光源照明标线片以产生特定标线片图案的图像。光学缩制系...
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