技术编号：2764587
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及用于制造高集成电路及其它微结构元件的微平版印刷(microlithographic)投影曝光装置。具体地，本发明涉及为浸渍操作设计的投影曝光装置。本发明还提供了用于确定投影透镜的成像特性的测量装置。背景技术 通常通过将多个结构层应用在合适的衬底例如硅晶片上来制造集成电路及其它微结构元件。为了构造所述结构层，首先用对特定波长范围内的光例如在深紫外光(DUV)光谱范围内的光敏感的光致抗蚀剂(photoresist)覆盖所述结构层。然后使被覆盖的晶片在...
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