技术编号：2765383
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及制作半导体装置等所用的光掩模及其制作方法、应用这种方法的图形形成方法、应用这种图形形成方法所形成的半导体装置的制作方法以及掩模图形设计所用的装置。在半导体集成电路和液晶面板等等的图形形成中，广泛地采用了一种称之为光刻技术的方法。这种方法把描画于掩模上的图形复制在被曝光的基板上。为了进行这种图形复制，一般使用把掩模上的图形先缩小后进行复制的缩小投影式投影曝光装置。随着近年来图形的微细化，要求上述投影曝光装置比原来具有更高的分辨能力。一般说来，投影透...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。