技术编号：2766419
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明一般涉及一种用于制造半导体的光刻工艺中的能轴外照明标度的标度掩膜板，尤其涉及一种制备其间距比焦深窄的附加辅助图形的标度掩膜板，从而与其它间距相比容许这些间距与焦深相反或相等。在技术上光刻胶图形的形成受各种因素的影响，如设备的精确度和光的波长，由于这些因素，使图形在一定程度上不能更精细。例如采用象利用波长为436nm光作光源的G-线分步器，利用波长为365nm光作光源的I-线分步器，或利用波长为248nmKrF激元激光作光源的分步器，这些分步器具有线宽...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。