技术编号：2766478
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种监测缺陷用掩模，它能监测在半导体器件的各步制造工艺期间出现的和由用于半导体器件制造工艺的任何设备所产生的缺陷。在半导体器件制造工艺中所进行的各项监测中，随着器件集成度变得较高及区域尺寸变得较大，有关缺陷的监测也变得重要起来。由于监测和控制缺陷直接关系到器件的产量，所以其重要性变得更为重要。监测缺陷的常规方法利用缺陷检查系统监测各种用于半导体器件制造工艺的设备和实际晶片。监测由各种设备所产生的缺陷的方法通过在各制造工艺开始之前周期性地利用光片或...
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