技术编号：2766738
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种在其分子中具有易于在酸的存在下去除的缩醛基或缩酮基的聚羟基苯乙烯衍生物，特别是一种具有窄的分子量分布和可用作抗蚀材料中的功能聚合物的聚羟基苯乙烯衍生物。随着半导体装置的日趋高密度集成化，用于更精细加工的光源、特别是用于光刻法的曝光装置所采用的波长越来越短。现在已研究使用远紫外线(300nm或更短)、KrF准分子激光束(248.4nm)等。但是，还没有发现特别适用于这些波长的抗蚀材料。例如，作为能用于KrF准分子激光束和远紫外光光源的抗蚀材料，...
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