技术编号：2766877
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种发光系统，其特别用于极远紫外(EUV)光刻术，该系统包括投影物镜，该投影物镜用于以≤193nm的波长制造半导体元件，该系统还包括光源、物平面、出射光瞳，以及用于生成光通道的具有第一栅格元件的第一光学元件和具有第二栅格元件的第二光学元件，将第二光学元件的栅格元件分配给由第一光学元件的第一栅格元件之一形成的每个光通道，可以通过构造或设置第一光学元件和第二光学元件的栅格元件，使每个光通道是从光源到物平面的连续光束路径。本发明还涉及一种具有上述发光系...
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