技术编号：2767734
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种按照权利要求1的前序部分中给出的特征把掩模投影到衬底上的方法。此外，本发明还涉及一种用于执行该方法的装置。在DE 3910048C2中公开了这种方法以及用于执行该方法的装置。在此涉及光刻技术中的校准系统，利用该系统可以使掩模、大面积的衬底和包含照明元件和光学元件的传输系统相对地相互对准，其中小区域内的掩模的结构可以传输到衬底上。在把掩模的结构传输或投影到衬底上时，在该衬底上作上标记，并且在扫描该掩模的结构时连续地针对各个区域将掩模对准衬底。使...
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